TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z是用于半导体制造工艺的先进湿式站。它专为超低压（300V）处理应用而设计，能够以最佳精度执行过程序列。这个湿站能够协调不同过程的多个腔室，以便制造复杂的设备。TEL UW300Z拥有双臂机器人转移设备，为所有操作提供精确操作。双臂机器人结构确保晶片在整个过程中被轻轻处理。此外，机器人的速度、效率和可靠性都借助先进的视觉系统最大化。这个湿站还配备了可移动的供气线路，可以引导精密的加工气体量向所需的区域，而不会造成任何压力损失。使用供气管线可实现更高密度的作业，降低污染风险。TOKYO ELECTRON UW 300Z湿式工作站具有源和水槽的冷却和加热功能。这样可以实现更高级别的一致性和准确性。湿站还配备了多种安全措施，如防止未经授权进入加工室的安全锁装置。安全的环境有助于防止任何潜在的流程故障。TEL/TOKYO ELECTRON UW300Z湿站是任何半导体生产设施的宝贵补充。它具有广泛的处理能力，保证了整个操作过程中的准确性和安全性。TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z湿式站凭借其双臂机械运动、最先进的视觉机和供气线路，是满足所有半导体生产需求的可靠高效解决方桉。