TEL/TOKYO ELECTRON UW-8000是一个多用途、直观的湿式站，非常适合各种纳米加工工艺。它是一种计算机控制的浸入式超高分辨率光刻工具,设计用于创建从500 nm到200 nm的高级纳米级特征。这种精密工具利用强烈的光束将复杂的图样"蚀刻"到很小的晶圆或基板上，创造出精确度惊人的微电子产品。TEL UW-8000配备了一个可调节、高精度的基板级，可以在X、Y、Z轴上移动，并配有步进电机，为每个轴提供2微米的分辨率。内置的照明器可以容纳各种光源，并进行调节以产生波长在400至800nm之间的光束。TOKYO ELECTRON UW 8000除了可以将晶片浸入抗蚀剂材料之外，还可以用来蚀刻或汽化材料，以及清洁/抛光的底物。晶圆被机械地支撑以最大程度地减小振动，而该站是完全自动化的，允许它在无人值守的情况下进行一系列的过程。它的设计具有紧凑的占地面积,可轻松集成到实验室或洁净室环境中,并具有小巧轻巧的单元,以实现最大的应用灵活性。TOKYO ELECTRON UW-8000直观的用户界面设计方便操作；图形用户界面引导用户完成该过程的每个步骤。这使用户能够制定自己的自定义配方并设置更复杂的蚀刻模式。该站还设有两个湿度管理系统，旨在监测和控制相对湿度，确保晶片保持干燥和无污染。最后,UW 8000是一款非常可靠的工具,价格合理,非常适合那些希望以现代、低成本方式生产先进纳米级产品的用户。由于能够提高各种工艺的产量，UW-8000是任何纳米制造实验室的宝贵投资。