DNS/DAINIPPON 820L湿站是一种最先进的设备,旨在为硅片等基板提供安全、高效和经济高效的高速清洗。这种设备采用先进的原地干燥工艺，可以从晶片表面去除薄膜和其他污染物，同时保持基板的完整性和质量。DNS 820L有三种型号-Ikanaf 8200、Lakeaf 8200和Helios 8200。所有这些型号均采用高压湿式喷嘴,用于有机薄膜和其他薄膜污染物的工艺临界清洁,而不会损坏基板上的集成电路。此外，这些设备还配备了车载控制系统，使用户能够控制温度和压力，以获得最佳清洁效果。DAINIPPON 820L利用物理和化学过程相结合，以便从晶圆表面清除各种污染物。首先，该站对晶片表面施用高压过滤水，以便脱落和去除尺寸为25nm或更大的颗粒。其次，采用了先进的氧化技术，根除了微小的粉尘、氧化物和其他未被高压水爆清除的小污染物。820L设计简单、方便用户,使所有用户无论技术水平如何,都能快速准确地执行清洁过程。此外,该单元能够快速高效地处理大量晶片,从而可以使用单个单元同时清洁大大小小的基板。此外,DNS/DAINIPPON 820L还配备了安全互锁等高级安全功能,以防止用户不小心将湿性或腐蚀性物质引入系统。综上所述，DNS 820L湿式站是一个先进的设备，其设计目的是提供硅片的高速清洗，并确保从晶片表面去除薄膜和其他污染物，而且损坏最小。这台机器采用先进的干就地工艺，用户友好，能够快速高效地处理大量货物。此外，DAINIPPON 820L还装有安全联锁装置，以确保用户的安全和保护。