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EMITECH K950 高真空蒸发镀膜仪

库存状态:现货

EMITECH K950 涡轮泵镀膜仪13。用途:主要用于扫描电镜和电子探针分析前样品的导电涂层,也可用于其他需要镀碳膜的场景,适用于材料科学、考古学等领域13。性能:采用涡轮分子泵高真空系统,真空度可达 1×10⁻⁴mbar。可连续蒸镀碳膜,喷碳厚度在 15-25nm,当厚度为 2nm 或更厚时膜是连续的。通过加热特定形状的碳棒或石墨棒来实现蒸发,能为样品提供均匀的镀膜效果13。

Product Name: EMITECH K950 Turbo Pumped Carbon Evaporator13.Purpose: It is mainly used for the conductive coating of samples before scanning electron microscopy and electron probe analysis, and can also be used in other scenarios requiring carbon - film coating. It is suitable for materials science, archaeology and other fields13.Performance: It adopts a turbomolecular pump high - vacuum system, and the vacuum degree can reach 1×10⁻⁴mbar. It can continuously evaporate carbon films, and the carbon - spraying thickness is 15 - 25nm. The film is continuous when the thickness is 2nm or thicker. It realizes evaporation by heating carbon rods or graphite rods of a specific shape, which can provide a uniform coating effect for samples13.

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