东京电子 TEL/TOKYO ELECTRON Chamber for SCCM Shin 等离子刻蚀腔室可利用等离子体对多种材料进行刻蚀和灰化处理，能精确控制工艺参数，具备高效粒子处理能力。其应用于半导体器件制造，包括多层制造、光掩模、LCD、SOI 和存储器件等领域。