泛林 LAM RESEARCH ICS-S 离子注入机是兼容实验和试产的小型生产型设备，可精确控制注入剂量、角度、深度等，注入电压为 10-200kV，剂量设置范围 1E11～1E16 ions/cm²，能搭配多种掺杂元素，应用于半导体器件制造等领域。