SAMCO RIE-300NR 反应离子刻蚀系统可处理 300mm 晶圆及多晶圆，具备优异的均匀性。其功能包括自动压力控制、“一键式” 操作等。应用于去除夹层膜、蚀刻多种材料、光阻剂处理及表面改性等领域Samco Inc.。