Y.A.C DES-405E 管式隔膜电解反应器：不明确。

UCLA Nanolab Technics Micro-RIE Series 800 反应离子刻蚀系统nanolab.ucla.edu：可对氮化硅、二氧化硅、单晶硅和多晶硅等材料进行刻蚀。采用 9 英寸直径不锈钢水冷蚀刻电极，配备两个气体通道，RF 功率 200 瓦可变，适用于半导体制造等领域。

TRIKON AVIZA Omega i2L 电感耦合等离子体蚀刻系统：不明确。