UCLA Nanolab Technics Micro - RIE Series 800 反应离子刻蚀系统可刻蚀氮化硅、二氧化硅、单晶硅和多晶硅等材料。配备 9 英寸直径不锈钢水冷刻蚀电极，射频功率 200 瓦可变，有两个带质量流量控制器的气体通道，应用于半导体等领域的刻蚀加工nanolab.ucla.edu。