https://rc0.zihu.com/g5/M00/44/A8/CgAGbGjaKEKACceIAAA14xjyYik66.jpeg,https://rc0.zihu.com/g5/M00/44/A8/CgAGbGjaKEaAdN6rAAAm3eF65vA90.jpeg,https://rc0.zihu.com/g5/M00/44/A8/CgAGbGjaKEaAJLnkAAA4Puh687894.jpeg,https://rc0.zihu.com/g5/M00/44/A8/CgAGbGjaKEaAeq1cAAAzB5uE7lQ31.jpeg
https://rc0.zihu.com/g5/M00/44/A8/CgAGbGjaKEKACceIAAA14xjyYik66.jpeg
AMAT / APPLIED MATERIALS 0040-07033

库存状态:现货

AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-07033反应堆是一种用于制造不同种类半导体和微电子器件的基板加工工具。广泛应用于集成电路(IC)、光电元件和微机电系统(MEMS)的制造过程中。AMAT 0040-07033反应堆是一种热保护石英管式炉,在大气压下有一个玻璃钟室,里面装满惰性气体,与集成的石英敏感器相连。通过由电动机驱动的提升机构来升高和降低感受器。它有一个内部加热机制,使温度能够被精确控制。APPLIED MATERIALS 0040-07033反应堆能够在受控环境中产生广泛的温度范围,在小数点后精确度高达三位数。温度控制是通过改变提供给石英敏感器的功率来实现的。反应器用于分子束外延(MBE)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)等过程。在MBE中,含有所需材料的气体被引入腔室,然后这些材料在电场的影响下沉积在基板上。在CVD中,前体气体被引入室内,然后经过一系列高温过程,导致在基质上形成所需的化合物。在ALD中,薄膜通过前体材料和氧化剂的交替层沉积在基板上。0040-07033反应堆能够实现组合过程,如双MBE/CVD/ALD。这样就可以在一个过程中组合由不同方法创建的薄膜。它还允许使用不能过高加热的前体材料,因为温度是根据所使用的材料调整的。AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-07033反应堆是生产各种复杂半导体和微电子器件的通用可靠工具。它对温度的出色控制、热量的均匀分布以及执行组合过程的能力,有助于创建可靠和高质量的组件。

TRADING GUID

交易指南

信息查询
信息查询

在购买二手产品前进行信息查询是非常重要的一步,它可以帮助你避免潜在的风险,确保购买到符合需求且质量可靠的产品。

产品名称
产品名称
产品型号
产品型号
清单
清单
当前开机状态
当前开机状态
出厂日期
出厂日期
现况确认
现况确认
线上图片
线上图片
远程视频
远程视频
现场看货
现场看货
寄样测试
寄样测试
设备验收
设备验收
合同签订
合同签订
快递验收
快递验收
现场验收发货
现场验收发货
售后保障
售后保障
根据机器实际情况提供服务
根据机器实际情况提供服务