AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-54167是一种Versalis蚀刻反应器，设计用于金属的高精度蚀刻。该反应堆专为半导体工业的应用而设计，在半导体工业中，精密蚀刻和清洁材料势在必行。反应器的特点是一个装有蚀刻溶液和隔离剂的金属室，而金属则放在基板上的室内。高压电源用于启动蚀刻过程，因为电子向金属加速，导致蚀刻的反应发生。AMAT 0040-54167反应堆配备了多项创新功能，确保蚀刻精确、可重复。它包含一个可变功率、低噪声电源,可以精确控制施加到金属上的功率和电流。这允许对蚀刻速率进行高度精确的控制,从而使用户能够创建可靠、可重复的蚀刻功能。此外，先进的蚀刻系统还具有可调气体喷射口和微气泡上游冷却系统，这两种系统都减少了蚀刻时间，提高了蚀刻结果的重复性。该蚀刻室采用超高真空技术进行最大程度的蚀刻控制。该室提供的真空比常规蚀刻系统高10倍，使反应在高度受控的条件下发生。可升级的蚀刻大气控制允许用户在室内精确设置大气，确保蚀刻始终是可重复的。反应堆还配备了一些旨在确保安全的功能。多个安全协议系统监视反应的压力和温度，确保避免任何危险情况。此外，APPLIED MATERIALS 0040-54167反应堆的设计易于维护和维修，减少了停机时间，防止了昂贵的维修。总体而言，0040-54167反应堆是为半导体工业精确蚀刻金属而设计的精密蚀刻工具。它的特点允许精确控制蚀刻过程，增加可重复性和提高安全性。其先进的蚀刻系统和真空室设计提供了优越的蚀刻控制，使用户在工作中实现了可重复性和一致性。AMAT/APPLICED MATERIALS 0040-54167反应堆具有独特的特点和安全协议，是一种强大可靠的蚀刻金属工具。