AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-70064反应器是一种用于加工和沉积薄膜层在基板上的工具，用于工业和科学应用。该反应器用于半导体和薄膜沉积、表面改性及相关工艺。该反应堆的设计旨在为生产和实验室应用提供卓越的性能和工艺质量。反应堆由一个封闭矩形形状的不锈钢室构成。该腔室设计用于坚固、稳定的内部压力和方便的内部维护。腔室的内部面积为150 x 180 x 114 cm，允许有很大的容量和高的吞吐量速率。该反应器非常适合广泛的低真空、高温和高真空过程，包括化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、表面改性和蚀刻应用。一个关键特点是它能够维持低压作业所需的工艺气氛，并保持高压作业的真空水平。反应堆的内部工作压力范围为1 x 10-5 mbar至1000 mbar，允许加工多种材料。反应堆能够利用各种不同的来源将反应物引入反应室内。这些包括热壁、冷壁和冷阴极源，都对腔内独特的工艺特性和能力做出了贡献。AMAT 0010-70064反应堆在每个单元内都有极好的安全和污染控制特性。这包括广泛的安全特性，如温度监测和控制，以及氧气/二氧化碳（O2/CO2）监测，这两者都使反应室处于安全和一致的操作条件。此外，该室绝缘良好，设计为最大限度地减少热量损失，确保最佳工艺可重复。最后，所有这些特性都有助于确保反应堆产生高质量的结果，同时减少废物的产生。应用材料0010-70064反应器是一种强大可靠的薄膜沉积工具。其设计和特点使其非常适合广泛的半导体、表面修改和蚀刻应用。通过提供卓越的性能、工艺质量和安全特性，它是任何实验室或工业环境的绝佳选择。