AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-35054是一个CMOS Epi-Ready反应堆，设计用于高级沉积。这种反应器被广泛用于在半导体晶片上产生硅、锡、金和的材料的薄膜，用于广泛的应用。该装置能够通过单步工艺将材料高效地沉积到晶片上，从而大大减少了生产时间和成本。其先进的设计具有广泛的温度控制选项，允许用户调节沉积速率和其他参数，确保一致的均匀膜质量和可靠的产量。AMAT 0100-35054装有耐用钛合金室，在机组内部均匀分配惰性气体，避免任何污染。它还配备了内置的光学窗口，可以进行过程监控和控制。其控制设备采用多步层成型工艺，旨在产生均匀的薄膜厚度和良好的电气均匀性。APPLIED MATERIALS 0100-35054反应堆可以安装为独立系统或与多种其他设备集成，即使对于最苛刻的实验也能提供理想的解决方桉。该单元的一些应用包括先进的薄膜涂层、先进的UV-LED固化、生物医学传感器和光伏装置。为确保最高级别的安全和性能，0100-35054反应堆得到制造商六个月保修的支持。它还符合最新的安全规定，确保用户在整个操作过程中保持安全。而且，该机具有广泛的配件，有助于达到最佳效果，如燃气箱、石英波纹管和石英器推车。AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-35054是先进沉积工艺的完美工具，其高度先进的设计使其成为一个可靠高效的解决方桉，适用于广泛的应用。其先进的温度控制选项提供了一致的均匀膜质量和可靠的产量，使其成为许多实验室和行业的首选。