AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-35053是一种用于CVD（化学气相沉积）工艺的反应堆。反应器由具有四个射频电极的环形室组成。电极设计用于在高压下操作时的直流（直流）偏置；这是为了控制过程气体的电离。该腔室设计用于均匀的气体分布和压力控制。内室墙的所有边缘都设计成提供均匀的气流。腔室内部的设计也是为了确保反应均匀高效。四个射频电极也用于控制气流的增压和均匀性。AMAT 0100-35053能够在室温下产生精确的结果，不需要冷却。CVD工艺允许较高的沉积速率,并精确控制加工气体的温度,从而允许较高的沉积速率。APPLIED MATERIALS 0100-35053不仅具有较高的沉积速率，而且对过程的控制也非常精确。它旨在帮助保持腔室内的一致温度，即使由于工艺气体流动、压力区别或气体成分的变化而使温度发生变化。CVD工艺的均匀性有助于确保均匀的薄膜沉积。0100-35053是为高精度和重复性而设计的，是CVD薄膜沉积过程中的关键组成部分。这种设计包括温度控制系统，以防止不希望的过热和过热，以及维持大气平衡。AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-35053设计用于金属和介电膜的沉积。这种广泛的材料允许沉积许多不同种类的薄膜，精确度很高。此外，使用CVD工艺可确保基板上的薄膜厚度非常均匀，这对于薄膜器件的生产至关重要。AMAT 0100-35053是一种有效的CVD反应器，其特点使其成为薄膜生产行业的领先者。其均匀的温度和压力控制，精确的温度系统，以及广泛的材料确保它是一个有效的选择清洁和一致的薄膜沉积。