AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-20012 Reactor是开发用于生产半导体材料的强健系统。这座反应堆是专门设计的，能够生产高质量、高精确度、均匀、低缺陷的晶片和元件，这些晶片和元件对于制造计算机、消费电子和其他现代技术的半导体至关重要。反应堆室是为可靠、可重复、安全运行而设计的超高真空系统。它具有先进的扩散泵以保持整个反应基板的低真空环境。这消除了制造这些高度复杂的半导体晶片所涉及的额外结晶步骤的需要。反应堆可以承受高达1600 °C的温度，低温膨胀系数。这使得反应器非常适合在高温高压反应过程的高真空环境中运行，如外延生长、高温扩散过程或薄膜沉积。该反应堆还能够以低功率效率的运行达到接近大气压的压力，使其成为一系列薄膜沉积、生长和蚀刻过程的理想选择。AMAT 0100-20012反应堆使用的原料可以是固态或气相。这些材料可以由移植物、砷、硼、铜、移植物、氯气、铅和硅组成。反应堆采用参数设置进行编程，以确保严格控制温度、压力和反应过程的其他方面。它还配备了先进的表面检测器，以确保晶圆的均匀性。应用材料0100-20012反应堆是半导体制造业不可或缺的工具。它提供了精确、精确和可重复性的理想组合,同时为生产优质晶片或设备组件提供了可靠、安全和统一的操作环境。通过减少结晶步骤、降低产量和提高吞吐量，这座反应堆可以帮助降低最终产品的制造成本和上市时间。