AMAT/APPLIED MATERIALS 0200-06824是一种先进的用于半导体制造的等离子体蚀刻反应器。该设备为浅沟隔离和浅沟深硅蚀刻的关键特征定义提供了解决方桉。反应器的工艺室是一种全金属设计，具有多个电极，使其能够调整选择性蚀刻速率，以提供优异的效果。其先进的等离子体源提供卓越的电气控制，可重复的过程性能。该系统设计为小型密封单元，降低了噪声水平，提高了单元清洁度。AMAT 0200-06824先进的电源和控制电子设备提供高性能精度。这通过压力控制机的能力表现出来，使其在操作过程中能够保持出色的过程重复性，并最大限度地减少对腔壁的离子轰击。反应堆先进的射频发生器也允许量身定制蚀刻轮廓形状控制。最终用户将享受直观易用的GUI（Graphical User Interface），让配方的创建和设置成为一种微风。有了各种各样的工艺配方，反应堆的用户就能够为他们想要达到的产品优化他们的工艺参数。该工具还支持可重复运行，并配备了健康监视器，以便用户可以检查资产的状况。APPLIED MATERIALS 0200-06824是生产优质半导体材料的直观高效模型。凭借先进的等离子体控制系统和广泛的工艺配方，反应堆允许用户精确控制蚀刻轮廓，以获得卓越的性能。它的图形用户界面使设置和配方创建成为一项简单的任务,而其健康监控设备确保操作员拥有做出合理决策的最佳信息。