INDUSTRY NEWS

行业新闻
二手东丽 TORAY LMT-470 激光微修边设备技术规格详解
TORAY LMT-470(Laser Micro Trimming)是半导体晶圆(Wafer)、玻璃...
2026-06-23
二手泛林 LAM RESEARCH 426-003636-103 蚀刻机用搬运机技术规格详解
泛林426-003636-103为蚀刻机专用Wafer Transfer Handler(晶圆搬运机)...
2026-06-22
二手东京电子 TEL/TOKYO ELECTRON CELLESTA 晶圆表面处理和清洗的设备系列技术规格详解
。CELLESTA 系列为 300mm(12 英寸)Single Wafer Cleaner(单晶圆清...
2026-06-22
二手东京电子 TEL/TOKYO ELECTRON CELESTA+ 晶圆清洗设备技术规格详解
CELESTA + 属于 300mm 单晶圆清洗设备(Single Wafer Cleaner),适配...
2026-06-22
二手东京电子 TEL/TOKYO ELECTRON NS300 清洗设备技术规格详解
TEL NS300 晶圆清洗设备(Wafer Cleaning Equipment)是半导体晶圆制程核...
2026-06-22
二手东京电子 TEL/TOKYO ELECTRON W062275 晶圆处理设备技术规格详解
东京电子W062275(TOKYO ELECTRON W062275)是半导体前道制程专用晶圆处理设备...
2026-06-18
二手泛林 LAM RESEARCH 2300 Etch Transport Module 脉冲刻蚀传输模块技术规格详解
本模块为 2300 系列 Etcher 配套 VTM(Vacuum Transport Module,...
2026-06-18
二手泛林 LAM RESEARCH 571-073682-59498 蚀刻机用腔体接驳台技术规格详解
本型号为 LAM2300 系列 Plasma Etcher(等离子蚀刻机)配套 Chamber Doc...
2026-06-18
二手国际电气 KOKUSAI ELECTRIC DJ-1206VN-DF 垂直低压力CVD系统技术规格详解
国际电气KOKUSAI ELECTRIC DJ-1206VN-DF为量产级垂直低压力化学气相沉积系统(...
2026-06-18
二手东京电子 TEL/TOKYO ELECTRON EJ13157A 晶圆清洗机技术规格详解
东京电子EJ13157A为量产级Batch Spray Cleaning System(批量喷淋式晶圆...
2026-06-17
二手蔡司 ZEISS LSM 780 显微镜技术规格详解
本机型为 Laser Scanning Confocal Microscope(激光扫描共聚焦显微镜)...
2026-06-17
二手CREDENCE P3X-III 聚焦离子束设备技术规格详解
CREDENCE P3X-III聚焦离子束设备(Focused Ion Beam, FIB)为半导体晶...
2026-06-16
二手泛林 LAM RESEARCH 2300 MWAVE STRPR 腔体技术规格详解
LAM RESEARCH 2300 MWAVE STRPR腔体为300mm(12-inch Wafer...
2026-06-16
二手日立 HITACHI FB-2000A 电镜技术规格详解
HITACHI FB-2000A 为单束聚焦离子束设备(Single Beam FIB,Focused...
2026-06-16
二手泛林 LAM RESEARCH 2300 KIYO E SERIES 气体控制箱技术规格详解
泛林 2300 KIYO E SERIES 气体控制箱(Gas Box)为 300mm 晶圆蚀刻设备核...
2026-06-15
二手应用材料 AMAT/APPLIED MATERIALS PRECISION 5000 蚀刻机腔体技术规格详解
PRECISION 5000(P5000)蚀刻腔体采用 MERIE(Magnetically Enha...
2026-06-15